原位高溫紅外漫反射裝置

簡(jiǎn)介：

原位高溫紅外漫反射裝置（HT-DRIFTS-500）是一款適用于高溫條件下多相催化、氣固催化、光催化體系紅外在線測(cè)試的原位裝置。該裝置主要針對(duì)于具有高表面積的粉末樣品。采用臺(tái)式加熱方式對(duì)樣品進(jìn)行加熱，操作溫度500℃。匹配HARRICK漫反射光路系統(tǒng)。

主要特點(diǎn)：

1. 該原位裝置適配HARRICK漫反射光路系統(tǒng)，十分適合于高溫條件下多相催化、氣固催化、光催化體系紅外在線測(cè)試；

2. 裝置采用臺(tái)式加熱系統(tǒng)，樣品臺(tái)加熱溫度范圍：RT-500℃，溫度控制精度：±1℃；

3. 采用Pt100溫度傳感器作為溫度探測(cè)器，并置于加熱臺(tái)內(nèi)部，樣品正下方處；

4. 裝置主體采用316L不銹鋼制作，具備一定的強(qiáng)度和耐腐蝕性；

5. 樣品臺(tái)頂部配備三個(gè)窗口，分別是紅外窗口2個(gè)和可見光窗口1個(gè)；

6. 裝置可進(jìn)行充氣處理，并可承受一定壓力，壓力調(diào)節(jié)范圍：≤3bar；

7. 配備溫度控制器和水冷裝置，用于控制腔體的加熱溫度和整個(gè)裝置的表面溫度，其中表面溫度不高于60℃；

8. 可選配件：各類紅外窗口及光學(xué)窗口。