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明暗場(chǎng)型 TGP-50C

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更新時(shí)間:2022-07-11 15:15:12瀏覽次數(shù):177

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一、用途: TGP-50C明暗場(chǎng)硅片檢測(cè)顯微鏡是適用于對(duì)太陽(yáng)能電池硅片的顯微觀察。本儀器配有大移動(dòng)范圍的載物臺(tái)、落射照明器、長(zhǎng)工作距離的平場(chǎng)消色差物鏡、大視野目鏡,圖像清晰、襯度好,同時(shí)配有偏光裝置,及其高像素的數(shù)碼攝像頭.本儀器配有暗場(chǎng)物鏡,使觀察硅片時(shí)圖像更加清晰,是檢測(cè)太陽(yáng)能電池硅片的金字塔 的微觀形貌分布情況,及硅片的缺陷分析的理想儀器. 硅片檢測(cè)顯微鏡可以觀察到肉眼難觀測(cè)的位錯(cuò)、......

詳細(xì)介紹

一、用途:

    TGP-50C明暗場(chǎng)硅片檢測(cè)顯微鏡是適用于對(duì)太陽(yáng)能電池硅片的顯微觀察。本儀器配有大移動(dòng)范圍的載物臺(tái)、落射照明器、長(zhǎng)工作距離的平場(chǎng)消色差物鏡、大視野目鏡,圖像清晰、襯度好,同時(shí)配有偏光裝置,及其高像素的數(shù)碼攝像頭.本儀器配有暗場(chǎng)物鏡,使觀察硅片時(shí)圖像更加清晰,是檢測(cè)太陽(yáng)能電池硅片的金字塔的微觀形貌分布情況,及硅片的缺陷分析的理想儀器.
硅片檢測(cè)顯微鏡可以觀察到肉眼難觀測(cè)的位錯(cuò)、劃痕、崩邊等;還可以對(duì)硅片的雜質(zhì)、殘留物成分分析.雜質(zhì)包括: 顆粒、有機(jī)雜質(zhì)、無(wú)機(jī)雜質(zhì)、金屬離子、硅粉粉塵等,造成磨片后的硅片易發(fā)生變花、發(fā)藍(lán)、發(fā)黑等現(xiàn)象,使磨片不合格. 太陽(yáng)能電池硅片生產(chǎn)過(guò)程中的檢測(cè)儀器之一.
 
二、技術(shù)參數(shù)
1.目鏡

類 別
放大倍數(shù)
視場(chǎng)(mm)
大視野目鏡
10X
φ18

  2.物鏡

類 型
放大倍數(shù)
數(shù)值孔徑NA
工作距離(mm) 
長(zhǎng)工作距離平場(chǎng)消色差物鏡
5X(明場(chǎng))
0.12
18.3
10X(明暗場(chǎng))
0.25
8.9
20X(明暗場(chǎng))
0.40
8.7
40X(明暗場(chǎng))
0.60
3.7
80X(明場(chǎng))
0.80
0.96

3.光學(xué)放大倍數(shù):50X -- 800X     系統(tǒng)參考放大倍數(shù):50X-5000X
4
.濾色片組:黃色、藍(lán)色、綠色、磨砂玻璃
5
.偏光裝置:可插入式起偏振片和三目頭內(nèi)置檢偏振片
6
.載物臺(tái):二層機(jī)械移動(dòng)式(配有快速移動(dòng)裝置) 尺寸:210mmX140mm,移動(dòng)范圍:75mmX50mm
7
.粗微同軸調(diào)焦機(jī)構(gòu),微動(dòng)手輪格值:0.002mm
8
.落射照明器:6V/20W鹵素?zé)?,亮度可調(diào)
9
.防霉:*的防霉系統(tǒng)
10.成像系統(tǒng):500萬(wàn)高像素的數(shù)字?jǐn)z像頭
 
三、系統(tǒng)組成
大平臺(tái)硅片檢測(cè)顯微鏡(TGP-50C): 1.顯微鏡 2.適配鏡 3、500萬(wàn)高像素?cái)z像頭4、計(jì)算機(jī)(選配)
                              
四、總放大參考倍數(shù)
   電腦型硅片檢測(cè)顯微鏡(TGP-50C):50--5000倍 (17寸顯示器為例)
 
五、選購(gòu)件  
  1.硅片測(cè)量軟件TX-3000C   2.目鏡: 20X 10X(帶刻度
 

電腦型硅片顯微鏡 TGP-50C

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