Nicomp 380 Z3000 納米粒徑與Zeta電位分析儀

NICOMP 380 Z3000納米粒徑與電位分析儀采用*的設(shè)計理念優(yōu)化結(jié)構(gòu)設(shè)計，充分有效地融合了動態(tài)光散射(Dynamic Light Scattering, DLS)和電泳光散射(ELS)技術(shù)，即可以多角度（步長0.9μm;）檢測分析液態(tài)納米顆粒系的粒度及粒度分布，又可以小角度測量Zeta電位。粒度測試范圍：粒度測試范圍：0.3 nm – 10 µm。

NICOMP 380 Z3000納米粒徑與電位分析儀通過檢測分析膠體顆粒的電泳遷移率測量Zeta電位。Zeta電位是對顆粒之間相互排斥或吸引力的強度的度量，是表征膠體分散系穩(wěn)定性的重要指標，Zeta電位（正或負）越高，體系越穩(wěn)定。Zeta電位表征的是粒子之間的排斥力。由于大部分的水相膠體體系是通過粒子之間的靜電排斥力來保持穩(wěn)定的，粒子之間的排斥力越大，粒子越不容易發(fā)生聚集，膠體也會越穩(wěn)定。NICOMP 380 Z3000結(jié)合了動態(tài)光散射技術(shù)（DLS）和電泳光散射法（ELS），實現(xiàn)了同機測試納米粒子分布和Zeta電勢電位。

NICOMP 380 Z3000 納米粒徑與電位分析儀 儀器參數(shù)

選配件

自動滴定儀

NICOMP 380 Z3000納米粒徑與電位分析儀在增加自動滴定模塊后，可以一次性使用同一樣品在不同PH值或不同離子濃度的條件下進行一系列測試，實現(xiàn)了在等電點測試的技術(shù)難題。

相位分析光散射法PALS（Phase Analyze Light Scattering）技術(shù)

PSS 于 2004 年推出的 PALS 技術(shù)，用相位（Phase）變化的分析取代原 先頻譜的漂移，不僅使 Zeta 電位分析的精度及穩(wěn)定性有了顯著的提高，而且突破了水相體系的限制，對油、有機物體系同樣能提供 Zeta 電位的分析。

NICOMP 380 Z3000 納米粒徑與電位分析儀 特點

1. 同機測試懸浮液體的粒徑分布以及ZETA電勢電位

2. Zeta電位運用了多普勒電泳遷移原理以及的相位分析散射法可以測試水相和有機相的樣品

3. 檢測范圍寬廣，亞微米顆粒均可以被檢測

4. 樣品測試量小

5. 高辨析率

6. 結(jié)果重現(xiàn)性好，誤差小于1%

7. 100 % 樣品可回收利用

8. 可搭載自動滴定儀, 自動稀釋器和自動進樣器

9. 無須校準

10. 一次性進樣，避免交叉污染樣品

11. 可選配大功率激光發(fā)生器以及級APD雪崩二極管檢測器來檢測粒徑小于1nm的顆粒

應(yīng)用領(lǐng)域

NICOMP 380 Z3000納米粒徑與電位分析儀廣泛適用于檢測懸浮在水相和有機相的顆粒物。

1）磨料

磨料既有天然的也有合成的，用于研磨、切削、鉆孔、成形以及拋光。磨料是在力的作用下實現(xiàn)對硬度較低材料的磨削。磨料的質(zhì)量取決于磨料的粗糙度和顆粒的均勻性。

2）化學(xué)機械拋光液(CMP SLURRY)

化學(xué)機械拋光是半導(dǎo)體制造加工過程中的重要步驟。化學(xué)機械拋光液是由腐蝕性的化學(xué)組分和磨料(通常是氧化鋁、二氧化硅或氧化鈰)兩部分組成。拋光過程很大程度上取決于晶片表面構(gòu)型。晶片的加工誤差通常以埃計，對晶片質(zhì)量至關(guān)重要。拋光液粒度越均勻、不聚集成膠則越有利于化學(xué)機械拋光加工過程的順利進行。

3）陶瓷

陶瓷在工業(yè)中的應(yīng)用非常廣泛，從磚瓦到生物科研材料及半導(dǎo)體領(lǐng)域。在生產(chǎn)加工過程中監(jiān)測陶瓷顆粒的粒度及其粒度分布可以有效地控制最終產(chǎn)品的性能和質(zhì)量。

4）粘土

粘土是一種含水細小顆粒礦物質(zhì)天然材料。粉砂與粘土類似，但粉沙的顆粒比粘土大。粘土中易于混雜粉砂從而降低粘土的等級和使用性能。ISO14688定義粘土的顆粒小于63μm。

5）涂料

 涂料種類繁多，用途廣泛。涂料的顆粒大小及粒度分布直接影響涂料的質(zhì)量和性能。

6）污染監(jiān)測

粒度檢測分析在產(chǎn)品的污染監(jiān)測方面起著重要作用，產(chǎn)品的污染對產(chǎn)品的質(zhì)量影響巨大。絕大多數(shù)行業(yè)都有相應(yīng)的標準、規(guī)程或規(guī)范，必須嚴格遵守和執(zhí)行，以保證產(chǎn)品滿足質(zhì)量要求。

7）化妝品

無論是普通化妝品還是保濕劑、止汗劑，它們的性能都直接與粒度的大小和分布有關(guān)?；瘖y品的顆粒大小會影響其在皮膚表面的涂抹性能、分布均勻性能以及反光性能。保濕乳液(一種乳劑)的粒度小于200納米時才能被皮膚良好吸收，而止汗劑的粒度只有足夠大時才能阻塞毛孔起到止汗的作用。

8）乳劑

乳劑是兩種互不相溶的液體經(jīng)乳化制成的非均勻分散體系，通常是水和油的混合物。乳劑有兩種類型，一種是水分散在油中，另一種是油分散在水中。常見的乳劑制品有牛奶（水包油型）和黃油（油包水型），加工過程中它們均需均質(zhì)化處理到所需的粒徑大小以期延長保質(zhì)期。

9）食品

食品的原料（粉末及液體）通常來源于不同的加工廠，不同來源的原料必須滿足某些特定的標準以使最終制品的質(zhì)量均一穩(wěn)定。原料性質(zhì)的任何波動都會對食品的口味和口感產(chǎn)生影響。用原料的粒度分布作為食品質(zhì)量保證和質(zhì)量控制（QA/QC）的一個指標可確保生產(chǎn)出質(zhì)量均以穩(wěn)定的食品制品。

10）液體工作介質(zhì)/油

液體工作介質(zhì)（如：油）越來越昂貴，延長液體介質(zhì)的壽命是目前普遍關(guān)心的問題。機械設(shè)備運轉(zhuǎn)過程中會產(chǎn)生金屬屑或顆粒落入工作介質(zhì)中（如：油浴潤滑介質(zhì)或液力傳遞介質(zhì)），因此需要一種方法來確定介質(zhì)（油）的更換周期。通過監(jiān)測工作介質(zhì)（油）中顆粒的分布和變化可以確定更換工作介質(zhì)的周期以及延長其使用壽命。

11）墨水

隨著打印機技術(shù)的不斷發(fā)展，打印機用的墨水變得越來越重要。噴墨打印機墨水的粒度應(yīng)當(dāng)控制在一定的尺度以下，且分布均勻，大的顆粒易于堵塞打印頭并影響打印質(zhì)量。墨水是通過研磨方法制得的，可用粒度檢測分析儀器設(shè)備監(jiān)測其研磨加工過程，以保證墨水的顆粒粒度分布均勻，避免產(chǎn)生聚集的大顆粒。

12）膠束

膠束是表面活性劑在溶液中的濃度超過某一臨界值后，其分子或離子自動締合而成的膠體尺度大小的聚集體質(zhì)點微粒，這種膠體質(zhì)點與離子之間處于平衡狀態(tài)。

其他如：乳液、色漆、制藥粉體、顏料、聚合物、蛋白質(zhì)大分、二氧化硅以及自組裝TiO_2納米管(TNAs)等