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紫外曝光機(jī)

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更新時(shí)間:2021-07-28 12:28:52瀏覽次數(shù):427

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紫外曝光機(jī)

詳細(xì)介紹

紫外曝光機(jī)


型號(hào):  MA6
廠家: 德國(guó)Karl Süss公司
技術(shù)指標(biāo): 
  曝光光源:UV1000
  光源波長(zhǎng):365nm 
  光源均勻性:<3.1%
  晶片尺寸:2-6英寸 
 接觸方式:真空,低真空接觸, 硬接觸,  軟接觸和接近式接觸
 對(duì)準(zhǔn)模式:正和背面兩種對(duì)準(zhǔn)方式
 最小線寬:0.5 μm
 對(duì)準(zhǔn)精度:  ±0.5 μm
主要功能及應(yīng)用范圍:
采用紫外光源,制作亞微米(最小線寬0.5 μm)的圖形。可用于各種微器件的制作和低維人工結(jié)構(gòu)的形成,如制作下列器件結(jié)構(gòu):微電子器件,光電子器件,生物傳感器,微機(jī)電系統(tǒng),超導(dǎo)電子學(xué)器件,磁電子學(xué)器件等,也是研究材料在低維度、小尺寸下量子行為的重要輔助工具。
主要附件: 涂膠機(jī);HP8熱板;顯影機(jī),光學(xué)顯微鏡

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