德 Iplas 微波等離子化學(xué)氣相沉積
詳細(xì)介紹
德國(guó) IPLAS 微波等離子化學(xué)氣相沉積技術(shù)(MPCVD), 通過等離子增加前驅(qū)體的反應(yīng)速率,降低反應(yīng)溫度。適合制備面積大、均勻性好、純度高、結(jié)晶形態(tài)好的高質(zhì)量硬質(zhì)薄膜和晶體。
MPCVD是的制備大尺寸單晶金剛石有效手段之一。德國(guó)iplas公司的 CYRANNUS® 等離子技術(shù)解決了傳統(tǒng)等離子技術(shù)的局限,可以在10mbar到室壓范圍內(nèi)激發(fā)高穩(wěn)定度的等離子團(tuán),限度的減少了因氣流、氣壓、氣體成分、電壓等因素波動(dòng)引起的等離子體狀態(tài)的變化,從而確保單晶生長(zhǎng)的持續(xù)性,為合成大尺寸單晶金剛石提供有力保證。
化學(xué)機(jī)理概要:
碳?xì)浠衔铮禾峁┏练e材料
氫氣:生成sp3鍵
氧:對(duì)石墨相/sp2鍵侵蝕
惰性氣體:緩沖氣體,或生成納米晶體。
適用合成材料:
大尺寸寶石級(jí)單晶鉆石
高取向度金剛石晶體
納米結(jié)晶金剛石
碳納米管/類金剛石碳(DLC)
多種等離子發(fā)生器選擇:
頻率:2.45GHz, 915MHz:
功率:1-2kW, 1-3kW, 3-6kW,1-6kW,5-30kW
等離子團(tuán)直徑:70mm, 145mm, 250mm, 400mm
工作其他范圍:0-1000mBar
其他應(yīng)用:
MPCVD同樣適用于平面基體,或曲面顆粒的其它硬質(zhì)材料如Al2O3,c-BN的薄膜沉積和晶體合成。德國(guó)iplas公司憑借幾十年在等離子技術(shù)領(lǐng)域的積累,可以為用戶提供高度定制的設(shè)備,滿足用戶不同的應(yīng)用需要。