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200 RIE 離子刻蝕與沉積系統(tǒng)

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公司名稱深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
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廠商性質(zhì)其他
更新時(shí)間2021/7/13 20:27:35
訪問次數(shù)292

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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司，經(jīng)過十多年的紫外光專業(yè)技術(shù)沉淀，可以根據(jù)客戶特殊要求提供定制化服務(wù)，研發(fā)設(shè)計(jì)組裝：紫外臭氧清洗機(jī)（UV清洗機(jī)），準(zhǔn)分子清洗機(jī)，等離子清洗機(jī)/去膠機(jī)等科研以及生產(chǎn)設(shè)備，擁有自主品牌及注冊商標(biāo)。同時(shí)我們代理歐美日多家高科技設(shè)備廠家高性價(jià)比產(chǎn)品, 始終堅(jiān)持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務(wù), 誠信的企業(yè)文化，為廣大中國及海外客戶提供的儀器設(shè)備和材料的整體解決方案。應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體/微納，光電/光學(xué), 生命科學(xué)/生物醫(yī)療等領(lǐng)域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶群體例如高等院校, 研究所，科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等。半導(dǎo)體/微納，光電/光學(xué) 產(chǎn)品主要有：德國ParcanNano（Nano analytik）針尖光刻機(jī)，電子束光刻機(jī), 激光直寫光刻機(jī)，紫外光刻機(jī)，微納3D打印機(jī)，德國Sentech刻蝕機(jī)/鍍膜機(jī)及原子沉積，英國HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)，微波離子沉積機(jī)MPCVD，芬蘭Picosun原子層沉積機(jī)，電子顯微鏡, 德國Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀，美國Sonix超聲波顯微鏡, 德國耐馳Netzsch熱分析儀, 德國Optosol吸收率發(fā)射率檢測儀, 日本SEN UV清洗機(jī)/UV清洗燈，美國Jelight紫外清洗機(jī)/紫外燈管，德國Diener等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品。生命科學(xué)/生物醫(yī)療產(chǎn)品主要有：PCR儀，核酸質(zhì)譜儀/核酸檢測儀，電子顯微鏡，紫外設(shè)備，光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀，生物芯片，試劑，實(shí)驗(yàn)耗材等。并可依據(jù)客戶需求，研發(fā)定制相關(guān)產(chǎn)品。我們以高性價(jià)比的優(yōu)勢為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù)，為高等院校, 研究所，科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等客戶提供儀器設(shè)備和材料。

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德國Sentech 200 RIE 離子刻蝕與沉積系統(tǒng) ，將平行板等離子體源設(shè)計(jì)與直接負(fù)載相結(jié)合。根據(jù)其模塊化設(shè)計(jì)，Etchlab 200可以升級為更大的抽油機(jī)、真空負(fù)載鎖和額外的氣體管道。

200 RIE 離子刻蝕與沉積系統(tǒng) 產(chǎn)品信息

德國Sentech 200 RIE 離子刻蝕與沉積系統(tǒng)

Cost-effectiveness

RIE plasma etcher Etchlab 200 combines parallel plate plasma source design with direct load.

成本效益：RIE等離子體蝕刻機(jī)Etchlab 200將平行板等離子體源設(shè)計(jì)與直接負(fù)載相結(jié)合。

可升級性：根據(jù)其模塊化設(shè)計(jì)，Etchlab 200可以升級為更大的抽油機(jī)、真空負(fù)載鎖和額外的氣體管道。

SENTECH控制軟件：用戶友好功能強(qiáng)大的軟件包括模擬GUI，參數(shù)窗口，食譜編輯器，數(shù)據(jù)日志，用戶管理。

Etchlab 200 RIE 等離子體蝕刻機(jī)是一種將RIE平行板電極設(shè)計(jì)的優(yōu)點(diǎn)與直接負(fù)載的低成本設(shè)計(jì)相結(jié)合的直接負(fù)載等離子體蝕刻機(jī)系列。Etchlab 200具有簡單快速的樣品加載功能，從零件到200a€‰mm或300a€‰mm直徑的晶圓片直接加載到電極或載體上。Etchlab 200的設(shè)計(jì)特點(diǎn)是靈活性、模塊化和占用空間小。大型診斷窗口位于頂部電極和反應(yīng)器可以很容易地容納森泰克激光干涉儀或OES和RGA系統(tǒng)。橢圓度計(jì)端口可用于使用森泰克原位橢圓度計(jì)進(jìn)行過程監(jiān)測。

Etchlab 200可配置用于處理與晶圓片直接加載兼容的材料，包括但不限于硅和硅化合物、復(fù)合半導(dǎo)體、介質(zhì)和金屬。

Etchlab 200由*的森泰克控制軟件操作，使用遠(yuǎn)程現(xiàn)場總線技術(shù)和非常友好的通用用戶界面。