濰坊uv光解除臭設(shè)備

工藝流程

廢氣通過風(fēng)機(jī)輸送至裝置內(nèi)，在裝置產(chǎn)生的強(qiáng)氧化性物質(zhì)（臭氧）和紫外線及催化劑的作用下，被迅速裂解、氧化、降解成低分子化合物、水和二氧化碳，降解產(chǎn)生的小分子及未反應(yīng)的臭氧在堿吸收化學(xué)塔中被洗滌除去，實(shí)現(xiàn)達(dá)標(biāo)排放。濰坊uv光解除臭設(shè)備

  技術(shù)適用范圍

l 各類化工企業(yè)，包括醫(yī)療、噴涂、橡膠、印染、食品等；

l 化工企業(yè)污水站廢氣；

l 含氮化合物，如氨、胺類、腈類、硝基化合物、含氮雜環(huán)化合物等；

l 碳?xì)浠蛘咛細(xì)浠衔?，如低?jí)醇、醛、脂肪酸等。

  技術(shù)優(yōu)勢(shì)

l 占地小，投資低；

l 即開即用，清洗簡(jiǎn)單，方便維護(hù)；

l 耐沖擊負(fù)荷，不易受污染物濃度及溫度變化影響；

l 適用范圍廣，尤其對(duì)惡臭氣體有很好的去除率。

低溫等離子凈化工作原理：

　　采用低溫等離子體分解油霧、廢氣等污染介質(zhì)時(shí)，等離子體中的高能離子起決定性的作用。流星雨?duì)畹母吣茈x子與介質(zhì)內(nèi)分子（原理）發(fā)生非彈性碰量，將能量特化成基態(tài)分子（原子）的內(nèi)能，發(fā)生激發(fā)、離解、電離等一系列過程使污染介質(zhì)處于活化狀態(tài)。污染介質(zhì)在等離子體的作用下，產(chǎn)生活性自由基，活化后的污染物分子經(jīng)過等離子體定向鏈化學(xué)反應(yīng)后被脫除。當(dāng)離子平均能量超過污染介質(zhì)中化學(xué)健結(jié)合能時(shí)，分子鏈斷裂，污染介質(zhì)分解，并在等離子發(fā)生器吸附場(chǎng)的作用下被焦收。在低溫等商子體中，可能發(fā)生各類型的化學(xué)反應(yīng)，這主要取決于等離子的平均能量、商子密度、氣體溫度、污染物介質(zhì)內(nèi)分子濃度及共存的介質(zhì)成分。濰坊uv光解除臭設(shè)備